1. Gearr an tinne vanadium íonachta atá ag teastáil de réir an mhéid sprice ag baint úsáide as meaisín sábhadh cothrománach, réamhthéite ag 450-500 céim , ansin brionnú, agus rialaigh an ráta dífhoirmithe iomlán de bhrionnú go dtí 70-80%;
2. Anneal an tinne vanaidiam brionnaithe ag teocht 400-500 céime agus aga coinneála de 60-120nóiméad, agus ansin fuaraigh é trí aerfhuaraithe;
3. Rollaigh an tinne vanadium annealed, agus rialaigh méid brú gach pas go 0.5-1mm, agus rialaigh an dífhoirmiúchán iomlán go 70-80%, go dtí go mbeidh an sprioc vanadium bán den faightear trastomhas agus tiús riachtanach;
4.Anail an sprioc vanadium rollta folamh arís ag teocht de 450-550 céim agus aga coinneála de 90-150nim. Tar éis é a anáil arís, déan é a fhuarú le huisce chun an sprioc ard-íonachta vanadium atá ag teastáil a fháil bán.
Ní hamháin go bhfuil struchtúr inmheánach aonfhoirmeach ag an sprioc vanadium bán a ullmhaítear ar an mbealach seo, ach tá buntáiste aige freisin ar ghráin mhín.
Éilítear go mbeadh an t-ábhar sprioc ard íonachta, níos lú eisíontais, comhdhéanamh ceimiceach aonfhoirmeach, gan aon deighilt, gan aon phiocháin, struchtúr gráin aonfhoirmeach, agus méid gráin micriméadair go leibhéal milliméadar. Ní mór an difríocht mhéid gráin i sprioc sputtering amháin a bheith chomh beag agus is féidir. Ar an mbealach seo, níl sé éasca feiniméan urscaoilte a tháirgeadh i sputtering magnetron, agus tá an scannán sputtering magnetron aonfhoirmeach.
Feidhm na sprice vanadium
Úsáidtear i réimsí an fhuinnimh ghréine, taispeántais painéil chomhréidh, leictreonaic agus leathsheoltóirí, mar shampla ciorcaid chomhtháite, mhiotalú backplane, optoelectronics agus iarratais eile.
